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  • 光刻機/紫外曝光機 (Mask Aligner)

    光刻機/紫外曝光機 (Mask Aligner) 光刻機又名:掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統,紫外曝光機等;ECOPIA為的半導體設備供應商,多年來致力于掩模對準光刻機和勻膠機研發與生產,并且廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領域;該公司是目前世界上早將光刻機商品化的公司之一,擁有雄厚的技術研發力量和設備生產能力;并且其設備被眾多著名企業、研發中心、研究所和高校所采用;以

    更新時間:2020-11-01

    廠商性質:其他

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